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J-GLOBAL ID：200903092667239432

ジルコニウムアルコキシトリス(β-ジケトネート)とその製造方法およびPZT膜形成用液体組成物

Inventor：
門倉 秀公

About 門倉 秀公

, 
奥原 弓恵

About 奥原 弓恵


Applicant, Patent owner：
株式会社高純度化学研究所

About 株式会社高純度化学研究所


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999370762
Publication number (International publication number)：2001151782
Application date： Nov. 19, 1999
Publication date： Jun. 05, 2001
Summary：
【要約】【課題】Pb(dpm)2を使ったPZT成膜にZr化合物として、Pb(dpm)2と反応性が低く、Zr(dpm)4より熱分解温度が低く、酢酸ブチルやトルエンの溶媒にも良く溶けるという性質を持った化合物およびその製造方法を提供する。さらにその化合物を用いたPZT膜形成用液体組成物を提供する。【解決手段】新規化合物Zr(OiPr)(dpm)3は0.1Torr/160°Cの昇華圧を持ち、400°CのCVDでZrO2膜を形成できる。それはZr(OiPr)41モルとdpmH3モルとを有機溶媒中で反応させ、昇華精製して得られる。Pb(dpm)2とZr(OiPr)(dpm)3とTi(OiPr)2(dpm)2の三成分を溶解した酢酸ブチル溶液は長いポットライフを有し、溶液フラッシュ法CVDでPZT膜を形成できる。
Claim (excerpt)：
Zr(OR)(L)3 ・・・・・・・・・・ 式I(Rは炭素数1〜5のアルキル基、Lはβ-ジケトネートを表す)で表される化合物。
IPC (2)：
C07F 7/00 ,  C23C 16/18
FI (2)：
C07F 7/00 A ,  C23C 16/18
F-Term (18)：
4H049VN01 ,  4H049VP06 ,  4H049VQ24 ,  4H049VR23 ,  4H049VR41 ,  4H049VS21 ,  4H049VU24 ,  4H049VU36 ,  4H049VV01 ,  4H049VW02 ,  4H049VW05 ,  4K030AA11 ,  4K030BA01 ,  4K030BA22 ,  4K030BA42 ,  4K030BA46 ,  4K030CA04 ,  4K030LA15
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (2)
  • 特開昭62-129375
  • 金属錯体を原料とする試薬
    Gazette classification：公表公報   Application number：特願平9-501754   Applicant：アドバンスド.テクノロジー.マテリアルズ.インコーポレイテッド
Article cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
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