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J-GLOBAL ID：200903092669656774

低反射帯電防止膜の製造方法及び低反射帯電防止膜

Inventor： 郡司 文明 ,  阿部 啓介 ,  森本 剛 ,  竹宮 聡 ,  河里 健 ,  久保田 恵子 ,  平塚 和也
Applicant, Patent owner： 旭硝子株式会社
Agent (1)： 泉名 謙治
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991267164
Publication number (International publication number)：1993080205
Application date： Sep. 18, 1991
Publication date： Apr. 02, 1993
Summary：

【要約】【目的】高硬度,高付着力を持つ低反射帯電防止膜を、高温に加熱することなく、生産性良く製造する。【構成】導電性酸化スズの粒子を分散させた水溶液に、Ti(C5H7O2)n(OR)mを含む液、及びSi(OR)mRn を含む液を添加した液を塗布し、紫外線を照射して高屈折率を有する導電膜を形成する。次いで、Si(OR)mRn を含む液を塗布し、紫外線照射及び加熱して低屈折率膜を形成する。

Claim (excerpt)：

導電性を有する高屈折率膜と低屈折率膜とを各々少なくとも1層有する低反射帯電防止膜の製造方法であって、該導電性を有する高屈折率膜の製造工程が、導電性酸化物と、Ti化合物とを含む塗布液を塗布した後紫外線を照射する工程を有することを特徴とする低反射帯電防止膜の製造方法。

IPC (2)：

G02B 1/10 ,  H01J 9/20