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J-GLOBAL ID：200903092700958717

エンボス基板及びそれを有する光受容体装置及び方法

Inventor： ディヴィス グレゴリー エフ
Applicant, Patent owner： フレックス プロダクツ インコーポレイテッド
Agent (1)： 中村 稔 (外6名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：1997518386
Publication number (International publication number)：1998512513
Application date： Nov. 07, 1996
Publication date： Dec. 02, 1998
Summary：

【要約】エンボス面(21)がプラスチック材料の基板(22)からなり、そして面と、基板の面によって支持されたエンボス面(62)とを有する。エンボス面(62)は100ナノメートル乃至300ナノメートルの平均荒さをもったパターンを有し、荒さが面(62)にわたって実質的に一様に分布され、パターンは峰と谷を有し、隣接した峰及び又は谷間の水平距離が峰と谷との間の深さよりも大きい。ピーク及び谷は、薄い平らな有機層で被覆されたエンボス面(62)が光に曝されるとき干渉効果を最小にし或いは除去するために、そこに当たった光の拡散を生じさせるように周期性なしに無秩序に配置されている。

Claim (excerpt)：

プラスチック材料の基板からなり、そして面と、基板の面によって支持されたエンボス面とを有するエンボス基板において、100ナノメートル乃至300ナノメートルの平均荒さをもったパターンを有し、荒さが面にわたって実質的に一様に分布され、前記パターンは峰と谷を有し、隣接した峰及び又は谷間の距離がピークと谷との間の深さよりも大きく、ピーク及び谷は、エンボス面が光に曝されるとき干渉効果を最小にし或いは除去するために、そこに当たった光の拡散を生じさせるように周期性なしに無秩序に配置されていることを特徴とするエンボス基板。

IPC (11)：

B32B 3/30 ,  B29C 59/04 ,  B32B 7/00 ,  B32B 27/30 ,  B32B 27/36 ,  C09D 7/12 ,  C09D 11/02 ,  C09D201/00 ,  G02B 1/10 ,  G02B 5/02 ,  G03G 5/10

FI (11)：

B32B 3/30 ,  B29C 59/04 C ,  B32B 7/00 ,  B32B 27/30 A ,  B32B 27/36 ,  C09D 7/12 Z ,  C09D 11/02 ,  C09D201/00 ,  G02B 5/02 B ,  G03G 5/10 Z ,  G02B 1/10 Z

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平1-176477
  
• 特開平2-226161
  
• 特開平1-092754