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J-GLOBAL ID:200903092705256443
半導体発光素子
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
植本 雅治
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997150292
Publication number (International publication number):1998326940
Application date: May. 23, 1997
Publication date: Dec. 08, 1998
Summary:
【要約】【課題】 エッチング深さの制御性が良好で製造が容易なIII族窒化物材料系の半導体発光素子を提供する。【解決手段】 サファイア基板101上に、GaNバッファ層102,n型GaNコンタクト層103,n型Al0.15Ga0.85Nクラッド層104,In0.05Ga0.95N活性層105,p型In0.07Ga0.6Al0.33Nエッチングストップ層106,p型Al0.15Ga0.85Nクラッド層107,p型GaNコンタクト層108が順次に積層されている。なお、109はp型GaNコンタクト層108上に形成されたp側電極であり、110はn型GaNコンタクト層103上に形成されたn側電極である。
Claim (excerpt):
n型クラッド層とp型クラッド層とに活性層が挾まれた構造が基板上に積層されたIII族窒化物材料系半導体発光素子において、Inを含むIII族窒化物材料で活性層よりも禁制帯幅の大きい材料からなるエッチングストップ層が活性層の近傍に積層されており、上記エッチングストップ層の表面までInを含まないIII族窒化物材料からなる層をエッチングしてストライプ構造が形成されていることを特徴とする半導体発光素子。
IPC (2):
FI (2):
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (11)
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半導体発光素子の製法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-057684
Applicant:ローム株式会社
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半導体発光素子およびその製法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-202479
Applicant:ローム株式会社
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導波路型光素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-021474
Applicant:株式会社日立製作所
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半導体光素子およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-123675
Applicant:日立電線株式会社
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逆メサ構造を有するRWGレーザー・ダイオード及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-273828
Applicant:現代電子産業株式会社
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半導体装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-062487
Applicant:株式会社東芝
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半導体レーザ装置及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-190054
Applicant:松下電子工業株式会社
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特開平2-246290
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窒化ガリウム系化合物半導体発光素子及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-040238
Applicant:シャープ株式会社
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窒化物系化合物半導体光素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-034576
Applicant:株式会社日立製作所
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半導体発光素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-027522
Applicant:松下電器産業株式会社
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