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J-GLOBAL ID：200903092718509910

ガスエツチングのエンドポイント検出方法

Inventor： 矢内 秀樹
Applicant, Patent owner： 京セラ株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991284818
Publication number (International publication number)：1993121367
Application date： Oct. 30, 1991
Publication date： May. 18, 1993
Summary：

【要約】【目的】エッチングのエンドポイントを正確に検知するとともに簡便且つ安価にして決定する。【構成】シリコン系堆積物を有するエッチング室内に三フッ化塩素ガスを導入し、シリコン系堆積物に三フッ化塩素ガスを接触させることによってシリコン系堆積物を反応ガス化させて成るガスエッチングであって、前記エッチング室内に熱検出手段を配し、該熱検出手段でシリコン系堆積物と三フッ化塩素ガスの反応熱の発生が止まったときを検知することによってガスエッチングのエンドポイントを見つける。

Claim (excerpt)：

シリコン系堆積物を有するエッチング室内に三フッ化塩素ガスを導入し、シリコン系堆積物に三フッ化塩素ガスを接触させることによってシリコン系堆積物を反応ガス化させて成るガスエッチングであって、前記エッチング室内に熱検出手段を配し、該熱検出手段でシリコン系堆積物と三フッ化塩素ガスの反応熱の発生が止まったときを検知することによってガスエッチングのエンドポイントを見つけることを特徴とするガスエッチングのエンドポイント検出方法。