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J-GLOBAL ID:200903092773323507

毛髪化粧料

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (4): 小島 隆司 ,  重松 沙織 ,  小林 克成 ,  石川 武史
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2006321026
Publication number (International publication number):2008133224
Application date: Nov. 29, 2006
Publication date: Jun. 12, 2008
Summary:
【課題】良好な風合い、特に髪になめらかさを与え、かつ低温保存安定性に優れる毛髪化粧料を提供する。【解決手段】(A)没食子酸誘導体と、(B)アミドアミン化合物と、(C)両性界面活性剤と、(D)エタノールと、(E)噴射剤とを含む毛髪化粧料。【選択図】なし
Claim (excerpt):
(A)没食子酸誘導体と、(B)アミドアミン化合物と、(C)両性界面活性剤と、(D)エタノールと、(E)噴射剤とを含む毛髪化粧料。
IPC (6):
A61K 8/34 ,  A61K 8/42 ,  A61K 8/60 ,  A61K 8/44 ,  A61K 8/33 ,  A61Q 5/00
FI (6):
A61K8/34 ,  A61K8/42 ,  A61K8/60 ,  A61K8/44 ,  A61K8/33 ,  A61Q5/00
F-Term (32):
4C083AA112 ,  4C083AB282 ,  4C083AC102 ,  4C083AC171 ,  4C083AC172 ,  4C083AC302 ,  4C083AC432 ,  4C083AC471 ,  4C083AC472 ,  4C083AC641 ,  4C083AC642 ,  4C083AC662 ,  4C083AC711 ,  4C083AC712 ,  4C083AC852 ,  4C083AD042 ,  4C083AD092 ,  4C083AD132 ,  4C083AD152 ,  4C083AD391 ,  4C083AD392 ,  4C083AD532 ,  4C083AD552 ,  4C083AD602 ,  4C083AD662 ,  4C083BB07 ,  4C083CC31 ,  4C083CC32 ,  4C083DD08 ,  4C083EE01 ,  4C083EE28 ,  4C083EE29
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (6)
  • 毛髪化粧料
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2001-285790   Applicant:ライオン株式会社
  • 毛髪化粧料
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2003-100881   Applicant:ライオン株式会社
  • 外用剤組成物
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2004-189135   Applicant:ライオン株式会社
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