Pat
J-GLOBAL ID:200903092773323507
毛髪化粧料
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (4):
小島 隆司
, 重松 沙織
, 小林 克成
, 石川 武史
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2006321026
Publication number (International publication number):2008133224
Application date: Nov. 29, 2006
Publication date: Jun. 12, 2008
Summary:
【課題】良好な風合い、特に髪になめらかさを与え、かつ低温保存安定性に優れる毛髪化粧料を提供する。【解決手段】(A)没食子酸誘導体と、(B)アミドアミン化合物と、(C)両性界面活性剤と、(D)エタノールと、(E)噴射剤とを含む毛髪化粧料。【選択図】なし
Claim (excerpt):
(A)没食子酸誘導体と、(B)アミドアミン化合物と、(C)両性界面活性剤と、(D)エタノールと、(E)噴射剤とを含む毛髪化粧料。
IPC (6):
A61K 8/34
, A61K 8/42
, A61K 8/60
, A61K 8/44
, A61K 8/33
, A61Q 5/00
FI (6):
A61K8/34
, A61K8/42
, A61K8/60
, A61K8/44
, A61K8/33
, A61Q5/00
F-Term (32):
4C083AA112
, 4C083AB282
, 4C083AC102
, 4C083AC171
, 4C083AC172
, 4C083AC302
, 4C083AC432
, 4C083AC471
, 4C083AC472
, 4C083AC641
, 4C083AC642
, 4C083AC662
, 4C083AC711
, 4C083AC712
, 4C083AC852
, 4C083AD042
, 4C083AD092
, 4C083AD132
, 4C083AD152
, 4C083AD391
, 4C083AD392
, 4C083AD532
, 4C083AD552
, 4C083AD602
, 4C083AD662
, 4C083BB07
, 4C083CC31
, 4C083CC32
, 4C083DD08
, 4C083EE01
, 4C083EE28
, 4C083EE29
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (6)
-
毛髪化粧料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-285790
Applicant:ライオン株式会社
-
毛髪化粧料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-100881
Applicant:ライオン株式会社
-
外用剤組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-189135
Applicant:ライオン株式会社
-
毛髪化粧料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-236355
Applicant:株式会社資生堂
-
化粧料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-344114
Applicant:日本精化株式会社
-
毛髪化粧料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-255812
Applicant:ライオン株式会社
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