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J-GLOBAL ID：200903092789283530

微細凹凸パタ-ン付き基板

Inventor： 南 努 ,  辰巳砂 昌弘 ,  松田 厚範 ,  大原 柊三 ,  北村 良一
Applicant, Patent owner： 五洋紙工株式会社 ,  南 努 ,  辰巳砂 昌弘 ,  松田 厚範
Agent (1)： 伊丹 健次
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999015702
Publication number (International publication number)：2000216417
Application date： Jan. 25, 1999
Publication date： Aug. 04, 2000
Summary：

【要約】【課題】 型の反転形状を正確に転写できるとともに、膜状物の屈折率を自由に制御することができ、更には厚膜化が可能となり、耐熱性にも優れ、例えば太陽電池用基板や反射板など光学部材として有用な微細凹凸パターン付き基板を提供する。【解決手段】 基板上及び/又は微細な凹凸パターンを有する型上に、オルガノアルコキシシランの加水分解・重縮合物を含む溶液を塗布して膜状物を形成し、次いで該基板と該型とを接合加圧して該膜状物を硬化させた後、離型を行うことにより、該型の反転形状からなる微細凹凸パターンを該膜状物に転写形成してなる微細凹凸パターン付き基板において、前記オルガノアルコキシシランの加水分解・重縮合物がフェニルトリアルコキシシランとメチルトリアルコキシシランの共加水分解・重縮合物であることを特徴とする。

Claim (excerpt)：

基板上及び/又は微細な凹凸パターンを有する型上に、オルガノアルコキシシランの加水分解・重縮合物を含む溶液を塗布して膜状物を形成し、次いで該基板と該型とを接合加圧して該膜状物を硬化させた後、離型を行うことにより、該型の反転形状からなる微細凹凸パターンを該膜状物に転写形成してなる微細凹凸パターン付き基板において、前記オルガノアルコキシシランの加水分解・重縮合物がフェニルトリアルコキシシランとメチルトリアルコキシシランの共加水分解・重縮合物であることを特徴とする微細凹凸パターン付き基板。

IPC (5)：

H01L 31/04 ,  B05D 5/06 104 ,  C03C 17/32 ,  G02B 5/02 ,  H01M 14/00

FI (5)：

H01L 31/04 M ,  B05D 5/06 104 J ,  C03C 17/32 Z ,  G02B 5/02 C ,  H01M 14/00 P