Pat

J-GLOBAL ID：200903092793514627

マスク

Inventor： 三嶋 孝司 ,  宮村 悦史
Applicant, Patent owner： 帝人株式会社
Agent (1)： 白井 重隆
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992091557
Publication number (International publication number)：1993261163
Application date： Mar. 18, 1992
Publication date： Oct. 12, 1993
Summary：

【要約】【目的】 繊維から塵の出ないマスクを作る。【構成】 単糸繊度が1.5〜5.0デニールであるアセチルセルロース長繊維を構成素材とする目付30〜200g/m2 の不織布を基材とするマスク。

Claim (excerpt)：

単糸繊度が1.5〜50デニールであるアセチルセルロース長繊維を構成素材とする目付30〜200g/m2 の不織布を基材とするマスク。