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J-GLOBAL ID：200903092803169184
微細組織厚膜材料の製造法および装置
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
和田 憲治 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994329331
Publication number (International publication number)：1996158033
Application date： Dec. 02, 1994
Publication date： Jun. 18, 1996
Summary：
【要約】【目的】 均一な微細組織をもつ比較的厚い膜の形成を超微粒子の製造と同時に行なう。【構成】 不活性ガスと水素ガスの混合ガスを利用した高周波プラズマトーチをそのプラズマフレームが炉内に放射するように取り付けたプラズマ炉において,該プラズマトーチで発生するプラズマ中に粉状原料を投入して該原料をガス化し,このガス化した成分を互いに会合させて粒径が1μm以下の超微粒子を該プラズマ炉内で生成させ,この超微粒子を同伴した炉内のエアロゾルをノズルから噴流として噴射させ,このエアロゾルの噴射流を基板上に投射することにより該基板上に超微粒子の付着層を形成し,この付着層を焼結することからなる微細組織厚膜材料の製造法。
Claim (excerpt)：
不活性ガスと水素ガスの混合ガスを利用した高周波プラズマトーチをそのプラズマフレームが炉内に放射するように取り付けたプラズマ炉において,該プラズマトーチで発生するプラズマ中に粉状原料を投入して該原料をガス化し,このガス化した成分を互いに会合させて粒径が1μm以下の超微粒子を該プラズマ炉内で生成させ,この超微粒子を同伴した炉内のエアロゾルをノズルから噴流として噴射させ,このエアロゾルの噴射流を基板上に投射することにより該基板上に超微粒子の付着層を形成し,この付着層を焼結することからなる微細組織厚膜材料の製造法。
Patent cited by the Patent：
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