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J-GLOBAL ID:200903092841842216
ハイドロタルサイトの製造方法
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
羽鳥 修
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993120274
Publication number (International publication number):1994329410
Application date: May. 21, 1993
Publication date: Nov. 29, 1994
Summary:
【要約】【目的】 制酸剤または樹脂用添加剤として有用であり、常温で副生物が少なく、安価に供給できるハイドロタルサイトの製造方法の提供。【構成】 ハイドロタルサイトを水溶媒中で製造する方法において、マグネシウム源の全部または一部に水酸化マグネシウムを用いることを特徴とする下記〔化1〕の一般式で表されるハイドロタルサイトの製造方法。【化1】
Claim (excerpt):
ハイドロタルサイトを水溶媒中で製造する方法において、マグネシウム源の全部または一部に水酸化マグネシウムを用いることを特徴とするハイドロタルサイトの製造方法。
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (12)
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特公昭46-002280
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特公昭49-003760
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特開昭54-145223
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特開昭59-182227
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特開昭60-231416
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特公昭50-030039
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特公昭46-002280
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特公昭49-003760
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特開昭54-145223
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特開昭59-182227
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特開昭60-231416
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特公昭50-030039
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