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J-GLOBAL ID：200903092849335356
真空蒸着槽の自動洗浄方法及び装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
萩野 平 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993081199
Publication number (International publication number)：1994272027
Application date： Mar. 17, 1993
Publication date： Sep. 27, 1994
Summary：
【要約】【目的】 磁気記録媒体となる磁性材料を蒸着する真空蒸着槽の洗浄を効率よく行うとともに、製品歩留りの向上と磁性材料の再利用とを図り得る真空蒸着槽の洗浄方法及び装置を提供する。【構成】 真空蒸着槽1内において基体3に磁性材料6を蒸着する際、真空蒸着槽1を構成する部材9、10に不所望に付着する磁性材料6から蒸発せしめられた蒸発原子の残滓を洗浄するため、基体3への蒸着工程が終了した後に部材9、10を分離して洗浄位置に搬送し、洗浄位置において洗浄方向や水圧等を自在に制御し得るように構成した洗浄ロボット21により洗浄した後、次の蒸着工程に備えて待機位置に待機させるとともに、洗浄水をタンクに収容して再利用を図るようにした。
Claim (excerpt)：
磁性材料を真空蒸着する真空蒸着槽で蒸着物が付着した被洗浄部材を、高圧噴射する洗浄液により洗浄することを特徴とする真空蒸着槽の自動洗浄方法。
IPC (2)：
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (7)
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