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J-GLOBAL ID：200903092851656720

光触媒材料およびそれを用いた光触媒組成物並びに光触媒製品

Inventor： 中野 佳代 ,  佐藤 光 ,  白川 康博 ,  岡村 正巳 ,  松田 良太郎 ,  蒲倉 貴耶 ,  大塚 一成 ,  横倉 清 ,  大川 秀樹 ,  石崎 有義
Applicant, Patent owner： 東芝マテリアル株式会社
Agent (8)： 鈴江 武彦 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  蔵田 昌俊 ,  峰 隆司 ,  福原 淑弘 ,  村松 貞男 ,  橋本 良郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006354990
Publication number (International publication number)：2008006428
Application date： Dec. 28, 2006
Publication date： Jan. 17, 2008
Summary：

【課題】照明機能への影響が少なく、しかも結晶構造が安定である光触媒効果に優れた光触媒材料等を提供することを目的とする。【解決手段】平均粒径が0.5μm以下であり、結晶構造が単斜晶系である三酸化タングステン微粒子を主成分としたことを特徴とする光触媒材料。【選択図】 なし

Claim (excerpt)：

430〜500nmの波長を含む光を発する光源により励起される酸化タングステン粉末を主成分とする光触媒材料において、以下に示す分解能力が50%以上であることを特徴とする光触媒材料。

IPC (9)：

B01J 35/02 ,  B01J 23/30 ,  C01G 41/02 ,  A61L 9/00 ,  A61L 9/01 ,  A61L 9/18 ,  C09D 201/00 ,  C09D 7/12 ,  C09D 5/00

FI (9)：

B01J35/02 J ,  B01J23/30 M ,  C01G41/02 ,  A61L9/00 C ,  A61L9/01 E ,  A61L9/18 ,  C09D201/00 ,  C09D7/12 ,  C09D5/00 Z

F-Term (67)：

4C080AA07 ,  4C080AA09 ,  4C080BB02 ,  4C080CC02 ,  4C080HH05 ,  4C080JJ04 ,  4C080KK08 ,  4C080LL02 ,  4C080MM02 ,  4C080QQ01 ,  4C080QQ11 ,  4C080QQ15 ,  4G048AA02 ,  4G048AB01 ,  4G048AB04 ,  4G048AC08 ,  4G048AD02 ,  4G048AD03 ,  4G048AD06 ,  4G048AE05 ,  4G169AA03 ,  4G169BA02C ,  4G169BA04A ,  4G169BA06B ,  4G169BA14A ,  4G169BA14B ,  4G169BA48A ,  4G169CA03 ,  4G169CA07 ,  4G169CA10 ,  4G169CA11 ,  4G169CA12 ,  4G169CA13 ,  4G169CA17 ,  4G169EA01Y ,  4G169EA08 ,  4G169EB18X ,  4G169EB18Y ,  4G169EC22Y ,  4G169ED02 ,  4G169ED04 ,  4G169EE06 ,  4G169FC05 ,  4G169FC08 ,  4G169HA02 ,  4G169HA03 ,  4G169HB01 ,  4G169HB06 ,  4G169HC02 ,  4G169HC15 ,  4G169HD04 ,  4G169HD10 ,  4G169HD18 ,  4G169HE06 ,  4G169HE07 ,  4G169HE12 ,  4G169HF02 ,  4G169HF03 ,  4G169HF05 ,  4G169HF09 ,  4J038AA011 ,  4J038HA211 ,  4J038HA446 ,  4J038KA04 ,  4J038KA12 ,  4J038KA20 ,  4J038NA18

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

• 光触媒性親水性部材、および、その製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-334518   Applicant：東陶機器株式会社
• 微粒タングステン酸化物とその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-100078   Applicant：株式会社アライドマテリアル
• 高効率光触媒組成物、それを用いた塗料、基体、並びにそれを用いた対象物の塗装方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-156310   Applicant：株式会社アキバ
• 特公平4-42057号公報
  

Cited by examiner (1)

• 光触媒膜組成物及びこれを用いた光触媒体
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-252707   Applicant：シャープ株式会社

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• Solvothermal syntheses of semiconductor photocatalysts of ultra-high ac
• The visible light induced photocatalytic activity of tungsten trioxide powders
• Preparation and characterization of doped WO3 photocatalyst powders