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J-GLOBAL ID：200903092867698890

ダイヤモンド膜の形成方法およびダイヤモンド膜を有する基体

Inventor： 師岡 久雄 ,  横田 英明 ,  吉田 知生
Applicant, Patent owner： ティーディーケイ株式会社
Agent (1)： 石井 陽一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993125280
Publication number (International publication number)：1994316489
Application date： Apr. 28, 1993
Publication date： Nov. 15, 1994
Summary：

【要約】【目的】 ダイヤモンド粒子を高密度かつ均一に再現性よく析出させることを目的とし、また、ダイヤモンド膜を所望のパターンに精度よくしかも簡便に形成することを目的とする。【構成】 希土類酸化物粒子および/または希土類ハロゲン化物粒子を含む無機粒子を基体表面に配置した後、または、希土類酸化物および/または希土類ハロゲン化物を含む無機膜を基体表面に形成した後、CVD法により基体表面側にダイヤモンド膜を形成する。

Claim (excerpt)：

希土類酸化物粒子および/または希土類ハロゲン化物粒子を含む無機粒子を基体表面に配置した後、CVD法により基体表面側にダイヤモンド膜を形成することを特徴とするダイヤモンド膜の形成方法。

IPC (4)：

C30B 29/04 ,  C30B 25/02 ,  C30B 25/04 ,  H03H 9/25

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開平4-228497
  
• 特開昭63-166733
  
• 特開平4-119995
  
• 特開平3-141195