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J-GLOBAL ID：200903092890102279

化粧料、シリカ被覆金属酸化物粉およびその製法

Inventor： 石井 伸晃 ,  和田 紘一 ,  関口 和夫 ,  高間 道裕 ,  伊東 忍 ,  矢野 幸太郎 ,  斉藤 康夫 ,  川崎 計二
Applicant, Patent owner： 昭和電工株式会社
Agent (5)： 石田 敬 ,  鶴田 準一 ,  古賀 哲次 ,  西山 雅也 ,  樋口 外治
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003430947
Publication number (International publication number)：2004115541
Application date： Dec. 25, 2003
Publication date： Apr. 15, 2004
Summary：

【課題】 化粧時の使用感に優れ、紫外線遮蔽能が高く、しかも光毒性の低い、保存安定性に優れた化粧料を提供すること、特定の特性を有し、形状追随性の高い、緻密で実用的なシリカ被膜に被覆された金属酸化物粉およびその製造方法を提供すること。【解決手段】 シリカ膜厚が0.1〜100nmであり、テトラリン自動酸化法により測定した光触媒活性度が6mmH2 O/min.以下であるシリカ被覆金属酸化物粉を含有する化粧料。1150〜1250cm-1と1000〜1100cm-1の赤外吸収スペクトルの吸収ピーク強度の比I(I=I1 /I2 :I1 は1150〜1250cm-1の吸収ピーク強度、I2 は1000〜1100cm-1の吸収ピーク強度)が0.2以上であり、かつ屈折率が1.435以上であるシリカ膜に被覆されたシリカ被覆金属酸化物粉。【選択図】 なし

Claim (excerpt)：

シリカ膜厚が0.1〜100nmであるシリカ被覆金属酸化物粉を含有することを特徴とする化粧料。

IPC (1)：

A61K7/42

FI (1)：

A61K7/42

F-Term (50)：

4C083AA122 ,  4C083AB051 ,  4C083AB081 ,  4C083AB082 ,  4C083AB211 ,  4C083AB212 ,  4C083AB231 ,  4C083AB232 ,  4C083AB241 ,  4C083AB242 ,  4C083AB311 ,  4C083AB312 ,  4C083AB432 ,  4C083AB442 ,  4C083AC012 ,  4C083AC022 ,  4C083AC072 ,  4C083AC102 ,  4C083AC122 ,  4C083AC182 ,  4C083AC212 ,  4C083AC231 ,  4C083AC232 ,  4C083AC241 ,  4C083AC242 ,  4C083AC342 ,  4C083AC392 ,  4C083AC422 ,  4C083AC432 ,  4C083AC442 ,  4C083AC472 ,  4C083AC482 ,  4C083AD042 ,  4C083AD152 ,  4C083AD272 ,  4C083AD352 ,  4C083AD512 ,  4C083BB46 ,  4C083CC04 ,  4C083CC05 ,  4C083CC07 ,  4C083CC12 ,  4C083CC19 ,  4C083DD23 ,  4C083DD27 ,  4C083DD31 ,  4C083EE01 ,  4C083EE06 ,  4C083EE10 ,  4C083EE17