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J-GLOBAL ID:200903092897092643

新規ポリチオフエン分散体及びその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 小田島 平吉
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1991036531
Publication number (International publication number):1995090060
Application date: Feb. 07, 1991
Publication date: Apr. 04, 1995
Summary:
【要約】 (修正有)【構成】ポリ陰イオンの存在下における式式中、R1及びR2は相互に独立して水素またはC1〜4アルキル基を表わすか、或いは一緒になって随時置換されていてもよいC1〜4アルキル基を成形する、に対応する構造単位からなるポリチオフェンの分散体、これらの分散体の製造に関する。【効果】チオフエンがポリ酸の存在下にて高い重合割合で重合するばかりでなく、所望の、好適な処理特性を有する水安定性組成物として生成され、そしてこれらの組成物から透明な帯電防止コーティングを生成させ、湿気の存在下でも帯電防止状態を保持し得る。
Claim (excerpt):
ポリ陰イオンの存在下での式【化1】式中、R1及びR2は独立して水素またはC14アルキル基を表わすか、或いは一緒になって随時置換されていてもよいC14アルキレン基を形成するに対応する構造単位からなるポリチオフエンの分散体。
IPC (3):
C08G 61/12 NLJ ,  C08K 3/16 ,  H05F 1/02
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
  • 特開平1-161013
  • 特開昭62-181328
  • 特開昭62-164717
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