Pat
J-GLOBAL ID：200903092907768063
プラズマによるエッチング装置
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
,
Agent (1)：
谷川 昌夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992080061
Publication number (International publication number)：1993279877
Application date： Apr. 01, 1992
Publication date： Oct. 26, 1993
Summary：
【要約】【目的】 高真空下での円滑なエッチングを可能にして、被エッチング物表面へのガス分子の堆積を抑制でき、異方性エッチングを高めることができるプラズマによるエッチング装置を提供する。【構成】 エッチング用ガスに高周波電圧を印加して該ガスをプラズマ化し、該プラズマの下で被エッチング物をエッチングするエッチングチャンバ1に、チャンバ1内へ電子を入射できるように複数個の電子放出部7を付設するとともにチャンバ1内の各電子放出部に対向する位置に、入射されてくる電子を反射する反射電極8を設け、各反射電極8には電子反射用電圧を印加する反射電源82を接続できるようにし、さらに各反射電極8に流れる電子電流値を検出する検出器80、チャンバ1壁に流れる電子電流値を検出する検出器12及び該各検出器にて検出される電流値を読み込み、各反射電極8に流れる電子電流値を等しく最小にし、さらにチャンバ1壁に流れる電子電流値を最小にするように各反射電源82の電圧を調整するコントローラ10を設けたプラズマによるエッチング装置。
Claim (excerpt)：
エッチング用ガスに高周波電圧を印加して該ガスをプラズマ化し、該プラズマの下で被エッチング物をエッチングするエッチングチャンバに、該チャンバ内へ電子を入射できるように複数個の電子放出部を付設するとともに該チャンバ内の各電子放出部に対向する位置に、入射されてくる電子を反射する反射電極を設け、該各反射電極には電子反射用電圧を印加する反射電源を接続できるようにし、さらに前記各反射電極に流れる電子電流値を検出する手段、前記エッチングチャンバ壁に流れる電子電流値を検出する手段及び前記各検出手段にて検出される電流値を読み込み、前記各反射電極に流れる電子電流値を等しく最小にし、さらに前記エッチングチャンバ壁に流れる電子電流値を最小にするように前記各反射電源電圧を調整する電圧調整手段を設けたことを特徴とするプラズマによるエッチング装置。
IPC (2)：
Patent cited by the Patent：
Return to Previous Page
