Pat
J-GLOBAL ID：200903092927453859

光学機能性膜及びその製造方法

Inventor：
高橋 伸子

About 高橋 伸子

, 
太田 友里恵

About 太田 友里恵

, 
吉原 俊夫

About 吉原 俊夫

, 
国峯 昇

About 国峯 昇


Applicant, Patent owner：
大日本印刷株式会社

About 大日本印刷株式会社


Agent (1)： 光来出 良彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999000622
Publication number (International publication number)：2000198964
Application date： Jan. 05, 1999
Publication date： Jul. 18, 2000
Summary：
【要約】【課題】 塗布法を採用し、加熱工程を必要としないで屈折率1.38〜1.46の所謂低屈折率のゲル薄膜を形成することができ、大量生産や設備コスト面で有利な光学機能性膜の製造方法、及びその製造方法により得られた光学機能性膜を提供する。【解決手段】 基材上に直接又は他の層を介して支持されているゲル層からなる光学機能性膜である。該光学機能性膜は、Rm Si(OR’)n (Rは炭素数1〜10のアルキル基、又はビニル基、(メタ)アクリロイル基、エポキシ基、アミド基、スルホニル基、水酸基、カルボキシル基等の反応性基、R’は炭素数1〜10のアルキル基を表し、m+nは4の整数である)で表される珪素アルコキシドを加水分解して調製してなるアルコキシシラン加水分解溶液が塗布法(溶液法)により塗布層とされ、次いで、該塗布層が活性エネルギー線(例えば、紫外線)により硬化されてオルガノポリシロキサン層となったものである。
Claim (excerpt)：
基材上に直接又は他の層を介して支持されている光学機能性膜であって、Rm Si(OR’)n(Rは炭素数1〜10のアルキル基、又はビニル基、(メタ)アクリロイル基、エポキシ基、アミド基、スルホニル基、水酸基、カルボキシル基等の反応性基、R’は炭素数1〜10のアルキル基を表し、m+nは4の整数である)で表される珪素アルコキシドを加水分解して調製してなるアルコキシシラン加水分解溶液が塗布法により塗布層とされ、次いで該塗布層が活性エネルギー線により硬化されてオルガノポリシロキサン層となったものであることを特徴とする光学機能性膜。
IPC (6)：
C09D183/04 ,  C08J 7/04 CFH ,  C09D 5/00 ,  G02B 1/11 ,  G02B 5/22 ,  C08L 83:04
FI (5)：
C09D183/04 ,  C08J 7/04 CFH Z ,  C09D 5/00 C ,  G02B 5/22 ,  G02B 1/10 A
F-Term (27)：
2H048CA05 ,  2H048CA13 ,  2K009AA02 ,  2K009BB24 ,  2K009CC42 ,  2K009DD03 ,  2K009DD04 ,  4F006AA02 ,  4F006AA19 ,  4F006AB39 ,  4F006AB74 ,  4F006DA01 ,  4F006DA04 ,  4F006EA03 ,  4J038DL031 ,  4J038GA01 ,  4J038GA03 ,  4J038GA06 ,  4J038GA07 ,  4J038GA09 ,  4J038GA13 ,  4J038HA216 ,  4J038JC32 ,  4J038NA19 ,  4J038PA07 ,  4J038PA17 ,  4J038PC08
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (11)
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM