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J-GLOBAL ID：200903092934849857

電子線又はX線用ネガ型レジスト組成物

Inventor： 水谷 一良 ,  阿出川 豊
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 小栗 昌平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001032878
Publication number (International publication number)：2002236364
Application date： Feb. 08, 2001
Publication date： Aug. 23, 2002
Summary：

【要約】【課題】基板面での塗布均一性に優れ、現像時の欠陥発生を軽減した電子線又はX線用ネガ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】ベンゼン環原子団を3〜10個含むフェノール誘導体であり、分子量2000以下、ヒドロキシメチル基及びアルコキシメチル基を分子内にそれぞれ1個以上有し、それらを少なくともいずれかのベンゼン環原子団に結合している、酸の作用により架橋反応を示す架橋剤、及び下記a群の溶剤のうち少なくとも1種と、下記b群及び下記c群の溶剤のうち少なくとも1種を含有する混合溶剤を含有することを特徴とする電子線又はX線用ネガ型レジスト組成物。a群:プロピレングリコールモノアルキルエーテルカルボキシレートb群:プロピレングリコールモノアルキルエーテル、乳酸アルキル及びアルコキシプロピオン酸アルキルc群:γ-ブチロラクトン、エチレンカーボネート及びプロピレンカーボネート

Claim (excerpt)：

少なくとも下記(A)、(B)、(C1)、(D)、及び(E)を含有することを特徴とする電子線又はX線用ネガ型レジスト組成物。(A)アルカリ可溶性樹脂(B)酸発生剤(C1)分子内にベンゼン環原子団を3〜10個含むフェノール誘導体であり、分子量2000以下、ヒドロキシメチル基及びアルコキシメチル基を分子内にそれぞれ1個以上有し、それらを少なくともいずれかのベンゼン環原子団に結合している、酸の作用により架橋反応を示す架橋剤(D)有機塩基性化合物(E)下記a群の溶剤のうち少なくとも1種と、下記b群の溶剤及び下記c群の溶剤のうち少なくとも1種を含有する混合溶剤a群:プロピレングリコールモノアルキルエーテルカルボキシレートb群:プロピレングリコールモノアルキルエーテル、乳酸アルキル及びアルコキシプロピオン酸アルキルc群:γ-ブチロラクトン、エチレンカーボネート及びプロピレンカーボネート

IPC (6)：

G03F 7/038 601 ,  C07C 25/18 ,  C07C381/12 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027

FI (6)：

G03F 7/038 601 ,  C07C 25/18 ,  C07C381/12 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 A ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (19)：

2H025AA04 ,  2H025AA18 ,  2H025AB16 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AD01 ,  2H025BE00 ,  2H025CB17 ,  2H025CB29 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025CC03 ,  2H025CC17 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  4H006AA01 ,  4H006AA03 ,  4H006AB92 ,  4H006EA22