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J-GLOBAL ID：200903092952084582

パターン検査方法及び装置

Inventor：
広井 高志

About 広井 高志

, 
福西 宗憲

About 福西 宗憲

, 
早川 功一

About 早川 功一

, 
奈良 安彦

About 奈良 安彦


Applicant, Patent owner：
株式会社日立ハイテクノロジーズ

About 株式会社日立ハイテクノロジーズ


Agent (1)： 筒井 大和
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003028404
Publication number (International publication number)：2004239728
Application date： Feb. 05, 2003
Publication date： Aug. 26, 2004
Summary：
【課題】検出条件と判定条件の双方を適切に設定した場合の検出すべき欠陥の検出性能を定量的に把握でき、正確に検出条件と判定条件を設定できるパターン検査技術を提供する。【解決手段】検査システムによるパターン検査手順において、複数の検出条件で検出された欠陥候補の画像、又はその欠陥が欠陥と判定される最低のしきい値である限界しきい値を保存し、候補の中から検出すべき欠陥を正解として教示し、教示と検出条件毎の画像データセット又は限界しきい値を基に例えば虚報率一定値以下で最高検出率等の判定条件を探索し、探索条件で再判定して検出条件毎の最適判定条件を求め、最適判定条件での性能を比較することで最適な検出条件を定量的に求める。よって、判定条件を最適化した上で定量的に最適な検出条件を求め、その条件で検査することができる。【選択図】 図7
Claim (excerpt)：
対象物基板のディジタル画像を検出し、この検出されたディジタル画像を同一のパターンであることが期待できるディジタル画像と比較し、この比較結果で差がある部分の画像又は予め決めた座標点の画像又はランダムに選択した座標点の画像を欠陥候補画像として保存し、欠陥として検出すべき期待値として候補点を選定し、この選定結果を元に欠陥候補画像に対する比較条件を新たに設定し、この設定した条件で判定した場合の差が有る欠陥候補を欠陥と判定し、この判定結果と期待値より評価点を演算し、この演算した評価点を元に比較条件を選定して記憶し、この記憶した検出条件で検出したディジタル画像を得、この得られたディジタル画像を同一のパターンであることが期待できるディジタル画像と比較し、この比較結果で差がある部分を欠陥として判定することを特徴とするパターン検査方法。
IPC (4)：
G01N21/956 ,  G01N23/225 ,  G06T1/00 ,  H01L21/66
FI (5)：
G01N21/956 A ,  G01N23/225 ,  G06T1/00 305A ,  G06T1/00 305D ,  H01L21/66 J
F-Term (42)：
2G001AA03 ,  2G001AA05 ,  2G001BA05 ,  2G001BA06 ,  2G001BA07 ,  2G001CA01 ,  2G001FA06 ,  2G001GA06 ,  2G001HA13 ,  2G001JA07 ,  2G001JA16 ,  2G001JA20 ,  2G001KA03 ,  2G001LA11 ,  2G051AA51 ,  2G051AB02 ,  2G051AC02 ,  2G051CA04 ,  2G051DA05 ,  2G051EA12 ,  2G051EA14 ,  2G051EA21 ,  2G051EB02 ,  2G051FA01 ,  4M106AA01 ,  4M106AA02 ,  4M106BA02 ,  4M106BA04 ,  4M106CA39 ,  4M106DB01 ,  4M106DJ18 ,  4M106DJ20 ,  4M106DJ21 ,  4M106DJ24 ,  5B057AA03 ,  5B057BA02 ,  5B057BA23 ,  5B057DA03 ,  5B057DB02 ,  5B057DB05 ,  5B057DC33 ,  5B057DC39
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

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