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J-GLOBAL ID：200903092954480183
処理装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
,
Agent (1)：
中本 菊彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991351191
Publication number (International publication number)：1993166714
Application date： Dec. 13, 1991
Publication date： Jul. 02, 1993
Summary：
【要約】【目的】不使用時の処理液供給ノズルに残存する処理液を待機中に除去し、被処理体への処理液の均一被着と被処理体の汚染防止を図る。【構成】不使用時の処理液供給ノズル21を保持する待機手段23に、処理液供給ノズル21のノズル孔22を開口部32に位置させて保持するノズル保持体31と、ノズル保持体31の開口部側に配設される処理液除去部材35とを具備する。処理液除去部材35は、待機中の処理液供給ノズル21のノズル孔22に近接して、ノズル孔22に残存する処理液を除去する。これにより、被処理体への処理液の均一被着を可能にすると共に、被処理体の汚染を防止することができる。
Claim (excerpt)：
被処理体の表面に処理液を滴下するノズル孔を有する処理液供給ノズルと、不使用時の上記処理液供給ノズルを保持する待機手段とを具備する処理装置において、上記待機手段は、上記処理液供給ノズルのノズル孔に近接し得るように配設されて上記ノズル孔に残存する処理液を除去する処理液除去部材を具備してなることを特徴とする処理装置。
IPC (4)：
H01L 21/027
, B05B 15/02
, B08B 3/02
, H01L 21/304 341
