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J-GLOBAL ID：200903092956087551

高周波誘導結合プラズマ発光分光分析装置

Inventor： 長谷川 正夫
Applicant, Patent owner： セイコーインスツルメンツ株式会社
Agent (1)： 林 敬之助
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000014059
Publication number (International publication number)：2000329697
Application date： Jan. 19, 2000
Publication date： Nov. 30, 2000
Summary：

【要約】【課題】 二次元面検出器では、強弱の光源を同時に測定する場合、異なる時間で2回露光する必要がある。また、データの転送に時間がかかる。【解決手段】 結像する前の分光された光を別方向に分割するために光軸上に光分割装置を配置し、分割された光路上に光遮断装置と二次元面検出器を複数個備える手段である。

Claim (excerpt)：

高周波誘導結合プラズマ発生装置と、プラズマへ試料を導入する試料導入装置と、プラズマからの発光を入口スリットへ導く入射光学系と、入口スリットからの光を平行光線に変換するコリメーティングミラーと、平行光線を分光するグレーティングと、分光された光を結像するカメラミラーと、結像面に配置され分光された光を検出する二次元面検出器と、二次元面検出器の直前に配置され二次元面検出器への光の入射を制御する光遮断装置とから構成される高周波誘導結合プラズマ発光分光分析装置において、結像する前の分光された光を別方向に分割する光軸上に配置された光分割装置と、分割された光路上に光遮断装置と二次元面検出器を複数個備えることを特徴とする高周波誘導結合プラズマ発光分光分析装置。

F-Term (15)：

2G043AA01 ,  2G043EA08 ,  2G043GA04 ,  2G043GB01 ,  2G043GB18 ,  2G043GB19 ,  2G043GB21 ,  2G043HA02 ,  2G043HA09 ,  2G043HA11 ,  2G043HA12 ,  2G043JA04 ,  2G043LA03 ,  2G043NA01 ,  2G043NA13