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J-GLOBAL ID：200903092961358415
薄膜磁気ヘッドの製造方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994086039
Publication number (International publication number)：1995272211
Application date： Mar. 31, 1994
Publication date： Oct. 20, 1995
Summary：
【要約】【目的】 薄膜磁気ヘッドを構成する磁性層、コイル導体層、絶縁層等の薄膜層の厚み分布を改善する薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供する。【構成】 基板上にパターニングされた磁気コア3を覆って絶縁膜4を形成する工程と、前記の絶縁膜上に金属薄膜5を形成する工程と、前記の磁気コアの上面を含む平面まで弾性体ポリシングパッド6を使用した化学的機械的研磨によって平坦に加工する工程と、前記の磁気コア外周部に残された金属薄膜をウエットエッチング法によって選択除去する工程とを有して構成した。
Claim (excerpt)：
基板上にパターニングされた磁気コアを覆って絶縁膜を形成する工程と、前記の絶縁膜上に金属薄膜を形成する工程と、前記の磁気コアの上面を含む平面までポリシングパッドを使用した化学的機械的研磨によって平坦に加工する工程と、前記の磁気コア外周部に残された研磨ストッパ膜をウエットエッチングによって選択除去する工程とを有することを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。
Patent cited by the Patent：
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