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J-GLOBAL ID：200903092979449086

ポジ型フォトレジスト組成物

Inventor： 百田 淳 ,  上西 一也 ,  青合 利明 ,  小久保 忠嘉
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 萩野 平 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995162179
Publication number (International publication number)：1997015850
Application date： Jun. 28, 1995
Publication date： Jan. 17, 1997
Summary：

【要約】【目的】 高い解像力、高い感度および保存安定性の優れるポジ型フォトレジスト組成物を提供する。【構成】 アルカリ可溶性樹脂、キノンジアジドスルフォン酸エステル、酸分解性基含有化合物、光酸発生剤及び露光波長に吸収を持ち且つ電子供与性機を持つ増感剤を含み、更に該スルフォン酸エステルの配合割合が0〜95wt%である。

Claim (excerpt)：

(A)アルカリ可溶性樹脂、(B)1,2-ナフトキノンジアジド-5(及び/又は-4)-スルホン酸エステル化合物、(C)酸分解性基を有する分子量3,000以下の低分子化合物、(D)光酸発生剤 及び(E)露光波長に吸収を持ち、且つ電子供与性基を持つ増感剤、を含み、且つ上記成分(B)の配合割合が0〜95wt%であることを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。

IPC (9)：

G03F 7/022 ,  C08K 5/00 KAJ ,  C08L101/12 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/028 ,  H01L 21/027 ,  H01L 23/29 ,  H01L 23/31

FI (8)：

G03F 7/022 ,  C08K 5/00 KAJ ,  C08L101/12 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/028 ,  H01L 21/30 502 R ,  H01L 23/30 F