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J-GLOBAL ID：200903092983050279

ジオテキスタイルによる地中構造物の浅埋設工法

Inventor：
毛利 栄征

About 毛利 栄征


Applicant, Patent owner：
独立行政法人農業・食品産業技術総合研究機構

About 独立行政法人農業・食品産業技術総合研究機構


Agent (1)： 相川 守
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007065629
Publication number (International publication number)：2007170678
Application date： Mar. 14, 2007
Publication date： Jul. 05, 2007
Summary：
【課題】掘削溝の構造に関係なく、土被り層の薄い浅い溝であっても、確実に地中構造物の浮上抵抗力を向上させる。【解決手段】第1の工程で、素堀溝3を形成し、第2の工程で、素堀溝3の底面5上にパイプライン2を配置し、このパイプライン2と素堀溝壁面3A、3Bとの間に土嚢6を配置する。第3の工程で、ジオテキスタイル10の溝幅方向両端を余らせてパイプライン2と支持地盤Cと土嚢6の内側面とに沿ってジオテキスタイル10を被せる。第4の工程で、埋め戻し材7を投入し、土嚢6の積み上げと埋め戻し材7の投入を繰り返し、埋め戻し材7を所定の高さL1まで投入する。第5の工程で、ジオテキスタイル10の両端余り部10B、10Cを開いて接続し、ジオテキスタイル10で囲まれた埋め戻し材7を包み込む。第6の工程で、ジオテキスタイル10上に埋め戻し材7が埋め戻され、素堀溝3は埋め戻しされる。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
地盤を掘削して掘削溝を形成する第1の工程と、掘削溝底面に地中構造物を配置するとともに、地中構造物と掘削溝壁面との間のうち少なくともいずれか一方に、これら地中構造物と掘削溝壁面との間にそれぞれ空隙を確保して支持壁材を配置する第2の工程と、地中構造物と溝底面と支持壁材の内側面とに沿ってジオテキスタイルを被せ、このジオテキスタイルの溝幅方向両端を余らせる第3の工程と、ジオテキスタイル両端余り部を埋め戻し材の投入に応じて伸ばす第4の工程と、埋め戻し材を投入し、ジオテキスタイルの両端を埋め込んで掘削溝を埋め戻す第5の工程とを備えたことを特徴とするジオテキスタイルによる地中構造物の浅埋設工法。
IPC (1)：
F16L 1/024
FI (1)：
F16L1/02 F
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1)
  • 特許第3314191号公報(第3-5頁、図3)
Cited by examiner (4)
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