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J-GLOBAL ID:200903093004075769

高品位トリアリルイソシアヌレートとその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 渡辺 一雄
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998075099
Publication number (International publication number):1999255753
Application date: Mar. 10, 1998
Publication date: Sep. 21, 1999
Summary:
【要約】【課題】 低ハロゲンイオン残量の高品位トリアリルイソシアヌレートとその製造方法を提供する。【解決手段】 非プロトン性極性溶媒中でシアン酸アルカリとハロゲン化アリルとを反応させてトリアリルイソシアヌレートを製造する。反応終了後、溶媒を留去し、塩酸水溶液にて洗浄し、トリアリルイソシアヌレートを含む有機層と水層を形成し、水層を分離する。本発明では、この後トリアリルイソシアヌレート含有有機層を、アルカリ性塩含有洗浄水によりアルカリ側で望ましくはシクロヘキサンの存在下洗浄する。次いでトリアリルイソシアヌレ一ト含有有機層を水層から分離すると、ハロゲンイオン残量0.5ppm以下のトリアリルイソシアヌレートが得られ、絶縁信頼性の高い耐熱性樹脂の架橋剤として好適に使用できる。特に集積度の高い電子基板用樹脂としてすぐれている。
Claim (excerpt):
ハロゲンイオン残量が0.5ppm以下であることを特徴とするトリアリルイソシアヌレート。

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