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J-GLOBAL ID：200903093007942757

光ディスク原盤露光装置

Inventor： 水田 治
Applicant, Patent owner： 株式会社リコー
Agent (1)： 樺山 亨 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994182476
Publication number (International publication number)：1996045114
Application date： Aug. 03, 1994
Publication date： Feb. 16, 1996
Summary：

【要約】【目的】露光ビーム形状を整形でき、レジスト板(光ディスク原盤)に形成する溝形状を矩形化することのできる光ディスク原盤露光装置を提供する。【構成】本発明では、レーザ光源1より出射したレーザ光が光量変調器2及びパルス変調器3により変調光となり、第1レンズ4、偏向変調器5、第2レンズ6でビーム整形を行ない、反射ミラー7によりレーザ光を一部抽出して対物レンズ8によりレジスト板9へ露光を行なう露光光学系を備えた光ディスク原盤露光装置において、ビーム整形に用いる第1レンズ4、第2レンズ6には同じ焦点距離のレンズを用い、第2レンズ6によりコリメートを行なう。ビーム整形に用いる偏向変調器5はラマンナス回折をするように調整して±1次光の強度分布が均一になるように設置する。また、偏向変調器5はレジスト板9の半径方向に±1次回折光が得られるように設置する。

Claim (excerpt)：

レーザ光源(1)より出射したレーザ光が光量変調器(2)及びパルス変調器(3)により変調光となり、第1レンズ(4)、偏向変調器(5)、第2レンズ(6)でビーム整形を行ない、反射ミラー(7)によりレーザ光を一部抽出して対物レンズ(8)によりレジスト板(9)へ露光を行なう露光光学系を備えた光ディスク原盤露光装置において、前記ビーム整形に用いる第1レンズ(4)、第2レンズ(6)には同じ焦点距離のレンズを用い、第2レンズ(6)によりコリメートされていることを特徴とする光ディスク原盤露光装置。