脱臭装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：伊藤洋二 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998295410
Publication number (International publication number)：2000117056
Application date： Oct. 16, 1998
Publication date： Apr. 25, 2000
Summary：

【要約】【課題】臭気ガスを熱により活性化された触媒によって脱臭する脱臭装置において、消費電力を低減できるようにすること。【解決手段】脱臭装置は、臭気ガスが通過する臭気通路31と、臭気通路31に配置され、臭気ガスを吸着して分解する触媒およびこの触媒を担持する触媒担体とから構成される触媒部35と、触媒部35を加熱する加熱手段32と、加熱手段32の温度制御を行う温度制御手段33とを備える。臭気ガスが触媒によって完全に分解される温度である第2所定温度T2と、第2所定温度T2より低い温度である第1所定温度T1とを設定する。温度制御手段33によって、触媒部35の温度を第1所定温度T1にする温度制御と、触媒部35の温度を第2所定温度T2にする温度制御とを繰り返す。

Claim (excerpt)：

臭気ガスが通過する臭気通路(31)と、前記臭気通路(31)に配置され、前記臭気ガスを吸着して分解する触媒およびこの触媒を担持する触媒担体とから構成される触媒部(35)と、前記触媒部(35)を加熱する加熱手段(32)と、前記加熱手段(32)の温度制御を行う温度制御手段(33)とを備える脱臭装置であって、前記臭気ガスが前記触媒によって完全に分解される温度である第2所定温度(T2)と、前記第2所定温度(T2)より低い温度である第1所定温度(T1)とを設定し、前記温度制御手段(33)は、前記加熱手段(32)によって、前記触媒部(35)の温度を前記第1所定温度(T1)にする温度制御と、前記触媒部(35)の温度を前記第2所定温度(T2)にする温度制御とを繰り返すことを特徴とする脱臭装置。

IPC (6)：

B01D 53/86 ZAB , B01D 53/38 , B01D 53/74 , B01J 23/34 , B01J 23/42 , B09B 5/00 ZAB

FI (5)：

B01D 53/36 ZAB H , B01J 23/34 A , B01J 23/42 A , B01D 53/34 116 G , B09B 5/00 ZAB P

F-Term (50)：

4D002AA13 , 4D002AA14 , 4D002AB02 , 4D002AC10 , 4D002BA05 , 4D002BA20 , 4D002CA07 , 4D002DA70 , 4D002EA02 , 4D002GA03 , 4D002GB03 , 4D004AA03 , 4D004AB05 , 4D004CA48 , 4D004CC09 , 4D004DA02 , 4D004DA06 , 4D048AA22 , 4D048AB03 , 4D048BA03X , 4D048BA06X , 4D048BA28X , 4D048BA30X , 4D048BA41X , 4D048BA50X , 4D048BB02 , 4D048CC38 , 4D048CC43 , 4D048CC53 , 4D048DA01 , 4D048DA03 , 4D048DA06 , 4D048DA13 , 4G069AA03 , 4G069BA01B , 4G069BA02B , 4G069BA45A , 4G069BB02A , 4G069BB02B , 4G069BB04A , 4G069BB04B , 4G069BC62A , 4G069BC62B , 4G069BC75A , 4G069BC75B , 4G069CA04 , 4G069CA10 , 4G069CA17 , 4G069EA18 , 4G069EE03

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