Pat
J-GLOBAL ID：200903093039453448
高温迅速浸炭用雰囲気ガス発生装置及び方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
木戸 一彦 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999336257
Publication number (International publication number)：2001152312
Application date： Nov. 26, 1999
Publication date： Jun. 05, 2001
Summary：
【要約】【課題】 煤の発生を抑制するとともに、爆発の危険性も回避しながら、浸炭用雰囲気ガスとして好適な一酸化炭素を高濃度に含む変成ガスを安定して発生させることができる高温迅速浸炭用雰囲気ガス発生装置を提供する。【解決手段】 炭化水素と、二酸化炭素、酸素等の源ガスとを混合した原料混合ガスをニッケル触媒層に導入し、触媒反応によって一酸化炭素と水素とを含む浸炭用雰囲気ガスを発生する装置において、前記触媒層の上流側に、前記原料混合ガスを炭化水素の熱分解以下の温度に予熱する予熱器を設ける。
Claim (excerpt)：
炭化水素と、二酸化炭素、酸素等の源ガスとを混合した原料混合ガスをニッケル触媒層に導入し、触媒反応によって一酸化炭素と水素とを含む高温迅速浸炭用雰囲気ガスを発生する装置において、前記触媒層の上流側に、前記原料混合ガスを炭化水素の熱分解以下の温度に予熱する予熱器を設けたことを特徴とする高温迅速浸炭用雰囲気ガス発生装置。
IPC (2)：
FI (2)：
F-Term (8)：
4G040EA03
, 4G040EA05
, 4G040EA07
, 4G040EB03
, 4G040EB41
, 4G040EC02
, 4K028AA01
, 4K028AC08
Cited by examiner (7)
Show all
Return to Previous Page
