Pat
J-GLOBAL ID：200903093045177452
IC製造における現像方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991214515
Publication number (International publication number)：1994045244
Application date： Jul. 30, 1991
Publication date： Feb. 18, 1994
Summary：
【要約】【目的】パドル方式現像において、ウエハ上にフォトレジスト膜のスカムが残存するのを防止することができる、IC製造における現像方法を提供する。【構成】ウエハ11を低回転で回転させながら、或いは静止させたまま、このウエハ11上に現像液13を盛り、この状態で現像を進行させ、爾後、これを高回転で回転させながら、このウエハ11上に現像液16とガスとをスプレー化して吹き付け、現像終了後、このウエハ11を高回転で回転させながら、これにリンス液19を注ぐようにしたものである。
Claim (excerpt)：
ウエハを低回転で回転させながら、或いは静止させたまま、このウエハ上に現像液を盛り、この状態で現像を進行させ、爾後、これを高回転で回転させながら、該ウエハ上に現像液とガスとをスプレー化して吹き付け、現像終了後、該ウエハを高回転で回転させながら、これにリンス液を注ぐようにしたことを特徴とする、IC製造における現像方法。
IPC (2)：
Patent cited by the Patent：
Return to Previous Page
