Pat
J-GLOBAL ID:200903093110415242

露光装置、露光パターン決定装置、露光パターン決定方法、その露光パターン決定方法をコンピュータに実行させることが可能なプログラム、そのプログラムを記録した記録媒体、及び、マスク

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 羽立 幸司
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004254895
Publication number (International publication number):2006073764
Application date: Sep. 01, 2004
Publication date: Mar. 16, 2006
Summary:
【課題】 露光パターンを可変可能なマスクにより被露光対象物を露光する場合において、短時間化と低コスト化を図る露光装置等を提供する。【解決手段】 被露光対象物7における露光領域を特定可能な情報に基づいて、露光パターン決定手段15が再構成可能マスク5の露光に使用される各開口部の位置、各開口部の形状及び各開口部の光の透過量を決定して露光パターンを決定し、露光装置1は決定された露光パターンに従って被露光対象物7を露光する。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
光源と、前記光源からの光を用いて所望の露光パターンを生成するマスクとを有し、前記マスクが生成した露光パターンにより被露光対象物を露光する露光装置において、 前記マスクは、複数の開口部を有し、前記各開口部を透過する光の透過量を可変可能なマスクであって、形状の異なる開口部が用意され又は開口部の形状が可変可能なマスクであり、 前記被露光対象物における露光領域を特定可能な情報に基づいて露光に使用される各開口部の位置、各開口部の形状及び各開口部の光の透過量を決定して露光パターンを決定する露光パターン決定手段と、 各開口部の形状及び各開口部の光の透過量を特定可能な情報に基づいて前記マスクの各開口部の形状を選択又は変更し各開口部を透過する光の透過量を変更する手段と、 各開口部の位置を特定可能な情報に基づいて前記マスクと前記被露光対象物の位置決めを行う位置関係決定手段と、 前記位置関係決定手段により行われた位置決めに従って前記マスクと前記被露光対象物との位置関係を制御する制御手段と を備えた露光装置。
IPC (3):
H01L 21/027 ,  G03F 1/08 ,  G03F 7/20
FI (3):
H01L21/30 515F ,  G03F1/08 A ,  G03F7/20 501
F-Term (8):
2H095BA02 ,  2H095BB02 ,  2H095BC09 ,  2H097GB01 ,  2H097LA10 ,  5F046AA25 ,  5F046BA03 ,  5F046CB18

Return to Previous Page