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J-GLOBAL ID：200903093115829258

電子線回折装置

Inventor： 岩崎 洋 ,  伊藤 琢哉 ,  富田 健 ,  奥西 栄治
Applicant, Patent owner： ソニー株式会社 ,  日本電子株式会社
Agent (1)： 舘野 千惠子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002363572
Publication number (International publication number)：2004199884
Application date： Dec. 16, 2002
Publication date： Jul. 15, 2004
Summary：

【課題】明瞭でかつボケのない、任意に選定した対象試料面上の微小領域の電子回折図形を得る。【解決手段】電子ビーム発生源と、電子ビームの集束手段と、偏向手段とを具備し、対象試料による電子回折パターンを、記録および/または撮影する走査ビーム電子回折測定装置において、電子ビームの収束半角α(rad)を、α<1×10-3・・・(1)直径D(nm)を、D<1.22×λ/α(λは電子ビームの波長)・・・(2)に保持し、対象試料面上の、電子ビームのスポット位置を制御するものとし、電子ビームの照射位置の移動に伴う電子ビーム軸のずれδ(rad)を、電子ビームの照射位置が最大距離移動したときに、δ<α・・・(3)となるように設定する。【選択図】 図7

Claim (excerpt)：

電子ビーム発生源と、電子ビーム集束手段と、偏向手段とを具備し、対象試料による電子回折パターンを、記録および/または撮影する電子線回折装置であって、 上記対象試料に照射する電子ビームの 収束半角α(rad)を、α<1×10-3・・・(1) 直径D(nm)を、D<1.22×λ/α(λは電子ビームの波長)・・・(2) に保持しながら、上記対象試料面上の、電子ビームのスポット位置を制御するものであり、 上記電子ビームの照射位置の移動に伴う電子ビーム軸のずれδ(rad)が、上記電子ビームの照射位置が最大距離移動したときに、 δ<α・・・(3) となることを特徴とする電子線回折装置。

IPC (5)：

H01J37/26 ,  G01N23/207 ,  H01J37/073 ,  H01J37/147 ,  H01J37/22

FI (5)：

H01J37/26 ,  G01N23/207 ,  H01J37/073 ,  H01J37/147 A ,  H01J37/22 501A

F-Term (14)：

2G001AA03 ,  2G001BA11 ,  2G001BA18 ,  2G001CA03 ,  2G001GA01 ,  2G001GA13 ,  2G001HA13 ,  2G001JA02 ,  2G001JA03 ,  5C030CC02 ,  5C033EE03 ,  5C033SS01 ,  5C033SS03 ,  5C033SS06