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J-GLOBAL ID:200903093158031721

高分子電解質の製造方法及び光電変換素子

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000111648
Publication number (International publication number):2001028276
Application date: Apr. 13, 2000
Publication date: Jan. 30, 2001
Summary:
【要約】 (修正有)【課題】機械的強度および安全性が高く、かつ、高光電変換機能を有する高分子電解質の製造方法およびそれを用いた光電変換素子の提供。【解決手段】高分子マトリックス中に酸化還元系電解質を含浸させ高分子電解質を製造する。酸化還元系電解質はハロゲンイオンを対イオンとするLiI等のハロゲン化合物及びハロゲン分子からなり、高分子マトリックスは重合性モノマー溶解液の硬化物を用いる。
Claim (excerpt):
高分子マトリックス中に酸化還元系電解質を含浸させることを特徴とする高分子電解質の製造方法。
IPC (10):
H01M 14/00 ,  C08F 14/18 ,  C08F 16/14 ,  C08F 20/18 ,  C08F 20/34 ,  C08K 5/00 ,  C08L101/00 ,  H01G 9/035 ,  H01G 9/028 ,  H01L 31/04
FI (10):
H01M 14/00 P ,  C08F 14/18 ,  C08F 16/14 ,  C08F 20/18 ,  C08F 20/34 ,  C08K 5/00 ,  C08L101/00 ,  H01G 9/02 311 ,  H01G 9/02 331 Z ,  H01L 31/04 Z
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)

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