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J-GLOBAL ID：200903093183307812

光学活性ジオールの製造方法

Inventor： 松山 彰収 ,  福西 邦男 ,  伊藤 美智夫 ,  小林 良則
Applicant, Patent owner： ダイセル化学工業株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991300366
Publication number (International publication number)：1993137591
Application date： Nov. 15, 1991
Publication date： Jun. 01, 1993
Summary：

【要約】【目的】 ジオールの経時的な光学純度の低下を防止する。【構成】 ジオールのエナンチオマー混合物を不斉的に資化する能力を有する微生物を作用させ、残存する光学活性ジオールを採取する製造方法に於いて、反応終了液に、光学純度低下防止剤を添加することにより、残存する光学活性ジオールの光学純度の低下を防ぐことを特徴とする。

Claim (excerpt)：

ジオールのエナンチオマー混合物に微生物を作用させ残存する光学活性ジオールを採取する光学活性ジオールの製造方法に於いて、反応終了液に光学純度低下防止剤を添加することにより、残存する光学活性ジオールの光学純度の低下を防ぐことを特徴とする光学活性ジオールの製造方法。

IPC (2)：

C12P 41/00 ,  C12R 1:645