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J-GLOBAL ID:200903093186899834

露光方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 岡本 啓三
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1991294613
Publication number (International publication number):1993136025
Application date: Nov. 11, 1991
Publication date: Jun. 01, 1993
Summary:
【要約】【目的】本発明は、モニタパターンの画像データ及びその加工データに基づいて最良結像位置を決定する方法を含む露光方法に関し、簡単な方法で、かつ客観的に最良結像位置を決定することができ、これにより高精度のパターン転写を容易に行うことができる露光方法を提供することを目的とする。【構成】最良結像位置の近傍で結像位置を変化させて各結像位置に対応する複数のモニタ感光性パターン4a〜4pを形成した後、該複数のモニタ感光性パターン4a〜4pを一組のモニタ画像データとして抽出し、該一組のモニタ画像データに基づいて前記最良結像位置を決定した後、該最良結像位置に露光すべき被露光体を置いて該露光すべき被露光体の露光を行うことを含み構成する。
Claim (excerpt):
最良結像位置の近傍で結像位置を変化させて各結像位置に対応する複数のモニタ感光性パターンを形成した後、該複数のモニタ感光性パターンを一組のモニタ画像データとして抽出し、該一組のモニタ画像データに基づいて前記最良結像位置を決定した後、該最良結像位置に露光すべき被露光体を置いて該露光すべき被露光体の露光を行うことを特徴とする露光方法。
IPC (3):
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
  • 特開平4-336414

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