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J-GLOBAL ID:200903093195316000

エステル化反応生成物及び化粧料

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2): 関根 武 ,  渡部 温
Gazette classification:再公表公報
Application number (International application number):JP2006301212
Publication number (International publication number):WO2006080389
Application date: Jan. 26, 2006
Publication date: Aug. 03, 2006
Summary:
【課題】 抱水性が高く、顔料の分散性が良好なエステル化反応生成物を提供すること。 【解決手段】 本発明のエステル化反応生成物は、ジペンタエリスリトールと、12-ヒドロキシステアリン酸重合物とをエステル化することによって得られるエステル化反応生成物であって、該エステル化反応生成物の水酸基価が20〜70mgKOH/gであり、酸価が3mgKOH/g以下である。【選択図】 なし
Claim (excerpt):
ジペンタエリスリトールと、12-ヒドロキシステアリン酸重合物とをエステル化することによって得られるエステル化反応生成物であって、該エステル化反応生成物の水酸基価が20〜70mgKOH/gであり、酸価が3mgKOH/g以下である、エステル化反応生成物。
IPC (9):
C07C 69/675 ,  A61K 8/37 ,  A61Q 1/00 ,  A61Q 3/00 ,  A61Q 5/00 ,  A61Q 17/00 ,  A61Q 15/00 ,  A61Q 19/00 ,  A61K 8/85
FI (9):
C07C69/675 ,  A61K8/37 ,  A61Q1/00 ,  A61Q3/00 ,  A61Q5/00 ,  A61Q17/00 ,  A61Q15/00 ,  A61Q19/00 ,  A61K8/85
F-Term (108):
4C083AA082 ,  4C083AA122 ,  4C083AB032 ,  4C083AB152 ,  4C083AB172 ,  4C083AB212 ,  4C083AB232 ,  4C083AB242 ,  4C083AB332 ,  4C083AB432 ,  4C083AB442 ,  4C083AC012 ,  4C083AC022 ,  4C083AC072 ,  4C083AC082 ,  4C083AC102 ,  4C083AC122 ,  4C083AC172 ,  4C083AC182 ,  4C083AC212 ,  4C083AC242 ,  4C083AC262 ,  4C083AC302 ,  4C083AC312 ,  4C083AC331 ,  4C083AC332 ,  4C083AC342 ,  4C083AC352 ,  4C083AC372 ,  4C083AC392 ,  4C083AC422 ,  4C083AC432 ,  4C083AC442 ,  4C083AC472 ,  4C083AC542 ,  4C083AC612 ,  4C083AC642 ,  4C083AC662 ,  4C083AC692 ,  4C083AC712 ,  4C083AC782 ,  4C083AC792 ,  4C083AC812 ,  4C083AC842 ,  4C083AC852 ,  4C083AC862 ,  4C083AC912 ,  4C083AD022 ,  4C083AD042 ,  4C083AD072 ,  4C083AD091 ,  4C083AD092 ,  4C083AD112 ,  4C083AD132 ,  4C083AD152 ,  4C083AD162 ,  4C083AD172 ,  4C083AD222 ,  4C083AD242 ,  4C083AD262 ,  4C083AD272 ,  4C083AD282 ,  4C083AD302 ,  4C083AD352 ,  4C083AD492 ,  4C083AD512 ,  4C083AD572 ,  4C083AD642 ,  4C083BB11 ,  4C083BB60 ,  4C083CC01 ,  4C083CC03 ,  4C083CC04 ,  4C083CC05 ,  4C083CC06 ,  4C083CC12 ,  4C083CC13 ,  4C083CC14 ,  4C083CC17 ,  4C083CC19 ,  4C083CC23 ,  4C083CC28 ,  4C083CC32 ,  4C083CC33 ,  4C083CC38 ,  4C083CC39 ,  4C083DD11 ,  4C083DD17 ,  4C083DD21 ,  4C083DD22 ,  4C083DD23 ,  4C083DD30 ,  4C083DD31 ,  4C083DD32 ,  4C083DD33 ,  4C083DD41 ,  4C083EE01 ,  4C083EE07 ,  4C083EE12 ,  4C083EE28 ,  4C083EE29 ,  4C083FF01 ,  4H006AA01 ,  4H006AA03 ,  4H006AB12 ,  4H006AC48 ,  4H006KA06 ,  4H006KC12
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (9)
  • 特開昭52-48613号公報
  • 特開昭54-109917号公報
  • 特開昭55-57509号公報
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