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J-GLOBAL ID：200903093203963100

抗菌性低刺激化粧料

Inventor： 今堀 篤子
Applicant, Patent owner： 株式会社ノエビア
Agent (1)： 小川 篤子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996220611
Publication number (International publication number)：1998045558
Application date： Aug. 02, 1996
Publication date： Feb. 17, 1998
Summary：

【要約】【目的】 有効な抗菌作用を示し、且つ皮膚に対し一次刺激性や感作性を示さないだけでなく、化粧料使用時の刺すような痛みやヒリヒリ感,チクチク感といった不快感をも与えない化粧料を得る。【構成】 多価アルコール及び多価アルコールのアルキルエーテルより選ばれる1種又は2種以上と、地楡の抽出物又は粉砕物を併用して成る。地楡の抽出物又は粉砕物との併用により、抗菌活性が相乗的に増強され、皮膚に対する刺激性や使用時の不快感を緩和することができる。

Claim (excerpt)：

多価アルコール及び多価アルコールのアルキルエーテルより選ばれる1種又は2種以上と、地楡の抽出物又は粉砕物を併用することを特徴とする、抗菌性低刺激化粧料。

IPC (2)：

A61K 7/48 ,  A61K 7/00

FI (3)：

A61K 7/48 ,  A61K 7/00 C ,  A61K 7/00 K

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 皮膚外用剤
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-071296   Applicant：株式会社クラブコスメチックス