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J-GLOBAL ID：200903093245008582

シリカ系微粒子、該微粒子分散液の製造方法、および被膜付基材

Inventor： 西田 広泰 ,  中井 満 ,  俵迫 祐二 ,  小松 通郎
Applicant, Patent owner： 触媒化成工業株式会社
Agent (1)： 石田 政久
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000048277
Publication number (International publication number)：2001233611
Application date： Feb. 24, 2000
Publication date： Aug. 28, 2001
Summary：

【要約】【課題】 低屈折率のシリカ系微粒子を得る。また、樹脂等との密着性、反射防止能に優れた被膜付基材を得る。【解決手段】 シリカ系微粒子は、図1(a)に示すように、シリカ系無機酸化物からなる外殻(シェル)10の内部に空洞20を有している。外殻10は細孔を有する多孔質なものであっても良いし、該細孔が閉塞されて空洞20を密封したものであっても良い。外殻10は図1(b)に示すように、第1シリカ被覆層11および第2シリカ被覆層12からなる複数のシリカ系被覆層であることが好ましい。

Claim (excerpt)：

平均粒子径が5nm〜300nmであるシリカ系微粒子であって、該微粒子は細孔を有する外殻の内部に空洞が形成されてなる中空球状であり、該空洞内に該微粒子調製時の溶媒および/または気体を包含してなることを特徴とするシリカ系微粒子。

IPC (2)：

C01B 33/193 ,  C09C 1/28

FI (2)：

C01B 33/193 ,  C09C 1/28

F-Term (30)：

4G072AA25 ,  4G072BB05 ,  4G072BB16 ,  4G072DD08 ,  4G072GG01 ,  4G072GG03 ,  4G072HH21 ,  4G072HH28 ,  4G072JJ21 ,  4G072KK03 ,  4G072NN21 ,  4G072QQ09 ,  4G072RR19 ,  4G072SS02 ,  4G072SS12 ,  4G072TT02 ,  4G072UU04 ,  4G072UU07 ,  4J037AA18 ,  4J037CB23 ,  4J037CC28 ,  4J037DD05 ,  4J037DD06 ,  4J037EE03 ,  4J037EE11 ,  4J037EE16 ,  4J037EE25 ,  4J037EE43 ,  4J037EE46 ,  4J037FF02

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 複合酸化物ゾル、その製造方法および基材
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-298937   Applicant：触媒化成工業株式会社