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J-GLOBAL ID:200903093269314943

アナターゼ型酸化チタンの製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 塩出 真一 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998142008
Publication number (International publication number):1999335121
Application date: May. 25, 1998
Publication date: Dec. 07, 1999
Summary:
【要約】【課題】 250°C以下の低温で、しかも、少ない工程数で、光触媒活性が高く比表面積の大きいアナターゼ型酸化チタン粉末を製造する。貯蔵安定性・分散性の高いアナターゼ型酸化チタンスラリーを製造する。得られたスラリーが光触媒活性を持つコーティング材として、耐熱性の弱い材質にもコーティングできるものとする。【解決手段】 チタニアゾル溶液、チタニアゲル体又はチタニアゾル・ゲル混合体を、密閉容器内で加熱処理すると同時に加圧処理し、ついで、乾燥させて、アナターゼ型酸化チタン粉末を得る。また、チタニアゾル溶液、チタニアゲル体又はチタニアゾル・ゲル混合体を、密閉容器内で加熱処理すると同時に加圧処理し、ついで、分散・撹拌して、アナターゼ型酸化チタンスラリーを得る。
Claim (excerpt):
チタニアゾル溶液、チタニアゲル体又はチタニアゾル・ゲル混合体を、密閉容器内で加熱処理すると同時に加圧処理し、ついで、乾燥させて、アナターゼ型酸化チタン粉末を得ることを特徴とするアナターゼ型酸化チタンの製造方法。
IPC (6):
C01G 23/053 ,  A61L 9/00 ,  A61L 9/20 ,  A62D 3/00 ZAB ,  B01J 21/06 ,  B01J 35/02
FI (6):
C01G 23/053 ,  A61L 9/00 C ,  A61L 9/20 ,  A62D 3/00 ZAB ,  B01J 21/06 M ,  B01J 35/02 J

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