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J-GLOBAL ID：200903093276834812

フオトレジスト除去装置

Inventor： 大森 伝
Applicant, Patent owner： 東京エレクトロン株式会社
Agent (1)： 浅井 章弘
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991302450
Publication number (International publication number)：1993114555
Application date： Oct. 22, 1991
Publication date： May. 07, 1993
Summary：

【要約】【目的】 円形以外の形状の被処理体の周辺部から迅速に不要なフォトレジストを除去する。【構成】 フォトレジスト4を塗布した被処理体10の周辺部11から不要なフォトレジストを除去するフォトレジスト除去装置において、上記被処理体10の周辺部11に沿って移動しつつこの周辺部11にフォトレジストを溶解する溶剤を吐出させる溶剤吐出手段14を設けると共に、上記フォトレジストの溶解した上記溶剤を吸引して排除するための、吸引管22を有する吸引手段16を設け、これによりパーティクルの発生原因となる不要なフォトレジストを除去する。

Claim (excerpt)：

フォトレジストを塗布した被処理体の周辺部から不要なフォトレジストを除去するフォトレジスト除去装置において、前記被処理体に対して相対移動しつつ前記被処理体の周辺部に前記フォトレジストに対する溶剤を吐出させる溶剤吐出手段と、前記フォトレジストの溶解した溶剤を前記被処理体の表面から吸引して排除する吸引手段とを備えるように構成したことを特徴とするフォトレジスト除去装置。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開昭64-061917
  
• 特開平2-157763
  
• 特開平3-206609
  
• 特開昭64-061917