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J-GLOBAL ID：200903093278538803

フォトマスク平面性維持装置

Inventor： 小澤 稔彦
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992083976
Publication number (International publication number)：1993291112
Application date： Apr. 06, 1992
Publication date： Nov. 05, 1993
Summary：

【要約】【目的】フォトマスクの自重によるフォトマスクのたわみを精度良く補正し、より微細なフォトマスクパターンの転写を可能とする。【構成】外気から隔離された気密空間を形成するチャンバー手段(1)をフォトマスク(R)の被照射面側に設ける。そして、フォトマスクのたわみを検出手段(11,12)を用いて光学的に検出する。圧力調節手段(13)は、検出手段からの出力信号(F)に基づいて、気密空間内の圧力を調節する。

Claim (excerpt)：

フォトマスクを照明する照明光を透過させる透過部を有し、該透過部と前記フォトマスクとの間に外気から隔離された気密空間を形成するチャンバー手段と、前記フォトマスクのたわみ量を光学的に検出する検出手段と、該検出手段からの出力に基づいて、前記気密空間内の圧力を調節して、前記フォトマスクのたわみを補正する圧力調節手段とを有することを特徴とするフォトマスク平面性維持装置。

IPC (5)：

H01L 21/027 ,  G03B 27/32 ,  G03B 27/64 ,  G03F 1/14 ,  G03F 7/20 521