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J-GLOBAL ID:200903093295367435

半導体光触媒を用いた水素及び酸素の製造方法、及び水素、酸素及び一酸化炭素の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 工業技術院化学技術研究所長
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992306118
Publication number (International publication number):1994126189
Application date: Oct. 19, 1992
Publication date: May. 10, 1994
Summary:
【要約】【目的】 半導体光触媒と光エネルギ-を用いて(1)水から効率的に水素と酸素を製造する方法および(2)水を用いて炭酸塩として固定された二酸化炭素を還元し、水素、酸素及び一酸化炭素を製造する方法を提供する。【構成】 半導体光触媒として酸化タンタル及び酸化ジルコニウムからなる群から選ばれた1つを、水または二酸化炭素を溶解した水溶液に懸濁し、光を照射することによって触媒的に水素と酸素、または水素と酸素及び一酸化炭素を製造する方法。
Claim (excerpt):
酸化タンタル及び酸化ジルコニウムからなる群から選ばれた半導体の存在下に水に光照射し、これを光分解することを特徴とする水素及び酸素の製造方法。
IPC (11):
B01J 35/02 ,  B01J 21/06 ,  B01J 23/20 ,  B01J 23/50 ,  B01J 23/64 102 ,  B01J 23/72 ,  B01J 23/74 321 ,  B01J 23/84 301 ,  C01B 3/04 ,  C01B 13/02 ,  C01B 31/18
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
  • 特公昭61-025642

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