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J-GLOBAL ID：200903093314111277

ポジ型レジスト組成物

Inventor： 藤森 亨 ,  漢那 慎一
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 小栗 昌平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001339439
Publication number (International publication number)：2003140349
Application date： Nov. 05, 2001
Publication date： May. 14, 2003
Summary：

【要約】【課題】 現像欠陥の問題が少ないポジ型レジスト組成物を提供すること。【解決手段】(A)ポリマー骨格の主鎖及び/又は側鎖にフッ素原子が置換した構造を有し、且つ酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解度を増大する基を有するフッ素基含有樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物、及び(D)少なくとも一つのフッ素原子を含有する含窒素化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

Claim (excerpt)：

(A)ポリマー骨格の主鎖及び/又は側鎖にフッ素原子が置換した構造を有し、且つ酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解度を増大する基を有するフッ素基含有樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物、及び(D)少なくとも一つのフッ素原子を含有する含窒素化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (12)：

G03F 7/039 601 ,  C08F 12/22 ,  C08F 14/26 ,  C08F 14/28 ,  C08F 16/26 ,  C08F 16/38 ,  C08F 20/22 ,  C08F 20/28 ,  C08F 20/44 ,  C08F 32/04 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/027

FI (12)：

G03F 7/039 601 ,  C08F 12/22 ,  C08F 14/26 ,  C08F 14/28 ,  C08F 16/26 ,  C08F 16/38 ,  C08F 20/22 ,  C08F 20/28 ,  C08F 20/44 ,  C08F 32/04 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (47)：

2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025CC20 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4J100AB07P ,  4J100AB07Q ,  4J100AC26P ,  4J100AC27P ,  4J100AE38R ,  4J100AK32Q ,  4J100AL03R ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100AM02P ,  4J100AR11P ,  4J100AR11Q ,  4J100AR11R ,  4J100BA02P ,  4J100BA02Q ,  4J100BA03Q ,  4J100BA11Q ,  4J100BA15R ,  4J100BA20R ,  4J100BB10P ,  4J100BB18Q ,  4J100BB18R ,  4J100BB18S ,  4J100BC08P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC09R ,  4J100BC53P ,  4J100BC53Q ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100DA39 ,  4J100FA03 ,  4J100JA38