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J-GLOBAL ID：200903093316761635

含フッ素共重合体、皮膜形成用組成物、反射防止膜、反射防止フィルムおよび画像表示装置

Inventor：
大林 達彦

About 大林 達彦

, 
細川 隆史

About 細川 隆史


Applicant, Patent owner：
富士写真フイルム株式会社

About 富士写真フイルム株式会社


Agent (1)： 飯田 敏三
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002097830
Publication number (International publication number)：2003026732
Application date： Mar. 29, 2002
Publication date： Jan. 29, 2003
Summary：
【要約】 (修正有)【課題】 硬化皮膜の耐擦傷性に優れる含フッ素共重合体、これを含有する皮膜形成用組成物、反射防止膜、反射防止フィルム及び表示装置を提供する。【解決手段】 下記一般式1で表わされる含フッ素共重合体を用いることにより、反射防止性能と耐擦傷性に優れた反射防止膜を得ることができる。一般式1中、Rf1は炭素数1〜30の直鎖、分岐または脂環構造を有する含フッ素アルキル基を表わし、エーテル結合を有していても良く、Rf2は炭素数1〜5のパーフルオロアルキル基を表わし、Aは架橋反応に関与し得る反応性基を少なくとも1つ以上含有する構成成分を表わし、Bは任意の構成成分を表わし、a〜dはそれぞれ各構成成分のモル分率(%)を表わし、それぞれ55≦a+b≦95、5≦a≦90、5≦b≦70、5≦c≦45、0≦d≦40の関係を満たす値を表わす。
Claim (excerpt)：
下記一般式1で表わされる含フッ素共重合体。【化1】一般式1中、Rf1は炭素数1〜30の直鎖、分岐または脂環構造を有する含フッ素アルキル基を表わし、エーテル結合を有していても良く、Rf2は炭素数1〜5のパーフルオロアルキル基を表わし、Aは架橋反応に関与し得る反応性基を少なくとも1つ以上含有する構成成分を表わし、Bは任意の構成成分を表わし、a〜dはそれぞれ各構成成分のモル分率(%)を表わし、それぞれ55≦a+b≦95、5≦a≦90、5≦b≦70、5≦c≦45、0≦d≦40の関係を満たす値を表わす。
IPC (4)：
C08F216/14 ,  C08F214/18 ,  G02B 1/10 ,  G02B 1/11
FI (4)：
C08F216/14 ,  C08F214/18 ,  G02B 1/10 A ,  G02B 1/10 Z
F-Term (27)：
2K009AA05 ,  2K009AA06 ,  2K009AA15 ,  2K009BB28 ,  2K009CC03 ,  2K009CC09 ,  2K009CC24 ,  2K009CC26 ,  2K009CC35 ,  2K009CC42 ,  2K009EE03 ,  4J100AC21Q ,  4J100AC22Q ,  4J100AE03S ,  4J100AE09P ,  4J100AE09R ,  4J100BA02P ,  4J100BA77R ,  4J100BB13P ,  4J100BB17P ,  4J100BB18P ,  4J100BC04P ,  4J100BC53P ,  4J100BC54R ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100JA00
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
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