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J-GLOBAL ID：200903093318311408

炭化水素成分トラッパ装置,蒸発燃料吸収装置及び排気ガス浄化装置

Inventor： 稲垣 伸二 ,  福嶋 喜章 ,  太田 隆 ,  岡田 茜 ,  小粥 真彦 ,  永見 哲夫 ,  松浦 慎次 ,  植原 清高 ,  黒田 一幸
Applicant, Patent owner： 株式会社豊田中央研究所 ,  トヨタ自動車株式会社 ,  キャタラー工業株式会社
Agent (1)： 高橋 祥泰
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992245698
Publication number (International publication number)：1994015165
Application date： Aug. 21, 1992
Publication date： Jan. 25, 1994
Summary：

【要約】【目的】 炭化水素(HC)特にC6以上の高沸点成分や嵩高い芳香族HCの捕捉能力の高いHCトラッパを提供すること。【構成】 上記HCトラッパの吸収剤として,(1)珪素四面体SiO4 の層状結晶の間に珪酸の脱水縮合によるSiO2 の層間架橋が形成され,かつ層間に多数の細孔を備えた層状シリカ多孔体,又は(2)該層状シリカ多孔体の構造に加えて更に前記層状結晶に珪素と異なる金属原子が結合することにより発現した固体酸性を備えている層状シリカ-金属酸化物多孔体を用いる。上記HCトラッパとしては,蒸発燃料吸収装置,排気ガス浄化装置などがある。

Claim (excerpt)：

炭化水素成分を含むガスの通路に設けられ,該炭化水素成分をトラップする吸収剤を充填したトラッパ装置であって,前記吸収剤として,少なくとも次の層状シリカ多孔体あるいは層状シリカ-金属酸化物多孔体を用いたことを特徴とする炭化水素成分トラッパ装置。(1)珪素四面体SiO4 の層状結晶の間に珪酸の脱水縮合によるSiO2 の層間架橋が形成され,かつ層間に多数の細孔を備えた層状シリカ多孔体。(2)珪素四面体SiO4 の層状結晶の間に珪酸の脱水縮合によるSiO2 の層間架橋が形成され,かつ層間に多数の細孔を備え,さらに前記層状結晶に珪素と異なる金属原子が結合することにより発現した固体酸性を備えている層状シリカ-金属酸化物多孔体。

IPC (5)：

B01J 20/10 ,  B01D 53/14 ,  B01D 53/34 120 ,  B01J 20/28 ,  F01N 3/08

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭61-040865
  
• 特開平1-227861
  
• 特開平2-075327