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J-GLOBAL ID：200903093343792488

含フッ素ポリシラン共重合体、ケイ素ポリマー組成物、および含フッ素シロキサン架橋体の製造方法

Inventor： 御子柴 智 ,  早瀬 修二 ,  中野 義彦 ,  可児 利佳子
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 鈴江 武彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996045949
Publication number (International publication number)：1997241385
Application date： Mar. 04, 1996
Publication date： Sep. 16, 1997
Summary：

【要約】【課題】 低誘電率、かつ高いTgを有する含フッ素シロキサン架橋体を製造するための含フッ素ポリシラン共重合体を提供する。【解決手段】 下記一般式(1)で表される構造単位と、下記一般式(2)〜(4)から選択された少なくとも1種で表される構造単位とを含むことを特徴とする。【化1】(上記一般式中、Ar1 は芳香族基であり、フッ素を含まない置換基で置換されていてもよく、Ar2 はフッ素置換芳香族基であり、R1 はフッ素置換炭化水素基である。)

Claim (excerpt)：

下記一般式(1)で表される構造単位と、下記一般式(2)〜(4)から選択された少なくとも1種で表される構造単位とを含むことを特徴とする含フッ素ポリシラン共重合体。【化1】(上記一般式中、Ar1 は芳香族基であり、フッ素を含まない置換基で置換されていてもよく、Ar2 はフッ素置換芳香族基であり、R1 はフッ素置換炭化水素基である。)

IPC (3)：

C08G 77/60 NUM ,  C08L 83/06 LRY ,  C08L 83/14 LRN

FI (3)：

C08G 77/60 NUM ,  C08L 83/06 LRY ,  C08L 83/14 LRN