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J-GLOBAL ID：200903093344720081
投影露光装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
曾我 道照 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992023744
Publication number (International publication number)：1993226226
Application date： Feb. 10, 1992
Publication date： Sep. 03, 1993
Summary：
【要約】【目的】 ハレーションによるレジスト寸法精度の劣化を防止する。【構成】 偏光子21が光源11〜13から発した照明光を直線偏光に変換し、ウエハ20の表面の段差に伴う斜面に対してP偏光のみで露光を行う。
Claim (excerpt)：
光源と、前記光源から発した照明光を回路パターンが形成されたマスク上に照射させる集光レンズと、マスクを通過した照明光をウエハ表面に集光させる投影レンズと、ウエハ表面に生じている段差に伴う斜面に対してP偏光のみが照射されるように照明光を直線偏光に変換する偏光子とを備えたことを特徴とする投影露光装置。
IPC (3)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
, G02B 26/00
