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J-GLOBAL ID:200903093347754939

レーザ加工装置及び方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 井上 義雄 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000094222
Publication number (International publication number):2001284281
Application date: Mar. 30, 2000
Publication date: Oct. 12, 2001
Summary:
【要約】【課題】 加工の際における照射面の状況に拘わらず、照射面に照射されるレーザ光の状態を簡易に測定することができるレーザ加工装置を提供すること。【解決手段】 ステージ駆動装置32を動作させて照射光学系20に対し蛍光板40をアライメントする。これにより、レーザ光ALが蛍光板40に入射し、蛍光板40からレーザ光ALの強度に応じた蛍光FLが発生するので、この蛍光FLをカメラ61で撮影し、処理装置62で適当に処理することにより、レーザ光ALのビームプロファイルを得ることができる。ここで、レーザ光ALのビームプロファイルが所定の条件からはずれる場合、照射光学系20に入射させる光量を調節したり、ワークWに照射される線状ビームの強度分布を調節することができる。
Claim (excerpt):
被加工体を収容する処理容器と、前記処理容器中の前記被加工体にレーザ光を照射する照射光学系と、前記処理容器中における前記照射光学系からのレーザ光の照射位置に配置可能な蛍光板とを備えるレーザ加工装置。
IPC (3):
H01L 21/268 ,  B23K 26/00 ,  H01L 21/20
FI (4):
H01L 21/268 T ,  H01L 21/268 G ,  B23K 26/00 M ,  H01L 21/20
F-Term (6):
4E068CA01 ,  4E068CA17 ,  5F052AA02 ,  5F052BA01 ,  5F052BB07 ,  5F052DA02

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