X線発生装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：杉谷勉
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997192454
Publication number (International publication number)：1999040393
Application date： Jul. 17, 1997
Publication date： Feb. 12, 1999
Summary：

【要約】【課題】 X線発生の際の変換効率が良好でX線の連続発生が可能となるようにする。【解決手段】この発明のX線発生装置は、レーザビームの照射によりX線を放出する材料で形成されているX線発生用ターゲット1と、このターゲット1が内側に配設されている真空容器2と、真空容器2の中のターゲット1にレーザビームLBを照射するレーザビーム照射部3とを備え、レーザビーム照射部3からのレーザビームLBを、ターゲット1に照射することによりX線を放出させる構成であり、X線発生の際の変換効率が非常に良くて、ターゲットの温度上昇を十分に抑えられる結果、X線の連続発生が可能となり、撮影効率が改善される。

Claim (excerpt)：

レーザビームの照射によりX線を放出する材料で形成されているX線発生用ターゲットと、少なくとも前記X線発生用ターゲットが内側に配設されている真空容器と、真空容器内のX線発生用ターゲットにレーザビームを照射するレーザビーム照射手段とを備えていることを特徴とするX線発生装置。

IPC (4)：

H05G 2/00 , G21K 5/02 , G21K 5/08 , H01J 35/00

FI (4)：

H05G 1/00 J , G21K 5/02 X , G21K 5/08 X , H01J 35/00 Z

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

特開平4-227237
特開平1-137543
特開昭57-130350

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