Pat
J-GLOBAL ID:200903093425484510
新規共重合体及びこれを配合する化粧料
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
▲高▼野 俊彦
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004231502
Publication number (International publication number):2006045439
Application date: Aug. 06, 2004
Publication date: Feb. 16, 2006
Summary:
【課題】化粧料配合原料として有用な新規共重合体及びこれを配合する化粧料を提供すること。【解決手段】ヒドロキシエチルアクリルアミドと、下記構造式(I)で示される不飽和単量体とを共重合して得られることを特徴とする共重合体及びこれを含有する化粧料である。(I) 式中、R1は水素原子またはメチル基、R2、R3はそれぞれ独立に水素原子または炭素数1から12の直鎖若しくは分枝アルキル基又はフェニル基を示す。【選択図】なし
Claim (excerpt):
ヒドロキシエチルアクリルアミドと、下記構造式(I)で示される不飽和単量体とを共重合して得られることを特徴とする共重合体。
IPC (11):
C08F 220/58
, A61K 8/72
, A61K 8/06
, A61K 8/02
, A61K 8/00
, A61Q 19/02
, A61Q 19/00
, A61Q 5/02
, A61Q 17/00
, A61Q 19/10
, C08F 220/56
FI (11):
C08F220/58
, A61K7/00 J
, A61K7/00 N
, A61K7/00 R
, A61K7/00 X
, A61K7/00 Y
, A61K7/075
, A61K7/40
, A61K7/48
, A61K7/50
, C08F220/56
F-Term (87):
4C083AA072
, 4C083AA082
, 4C083AA112
, 4C083AA122
, 4C083AB032
, 4C083AB112
, 4C083AB232
, 4C083AB242
, 4C083AB282
, 4C083AB332
, 4C083AB352
, 4C083AC012
, 4C083AC022
, 4C083AC072
, 4C083AC102
, 4C083AC112
, 4C083AC122
, 4C083AC132
, 4C083AC172
, 4C083AC182
, 4C083AC212
, 4C083AC232
, 4C083AC242
, 4C083AC262
, 4C083AC302
, 4C083AC312
, 4C083AC342
, 4C083AC352
, 4C083AC392
, 4C083AC422
, 4C083AC432
, 4C083AC442
, 4C083AC482
, 4C083AC532
, 4C083AC542
, 4C083AC582
, 4C083AC642
, 4C083AC712
, 4C083AC782
, 4C083AC792
, 4C083AD042
, 4C083AD052
, 4C083AD091
, 4C083AD092
, 4C083AD152
, 4C083AD172
, 4C083AD282
, 4C083AD332
, 4C083AD352
, 4C083AD392
, 4C083AD492
, 4C083AD532
, 4C083AD642
, 4C083AD662
, 4C083BB36
, 4C083CC01
, 4C083CC05
, 4C083CC23
, 4C083CC38
, 4C083DD23
, 4C083DD27
, 4C083DD31
, 4C083EE06
, 4C083EE07
, 4C083EE11
, 4C083EE16
, 4C083EE17
, 4C083EE21
, 4C083FF01
, 4C083FF05
, 4J100AM15Q
, 4J100AM17Q
, 4J100AM21P
, 4J100AM21Q
, 4J100BA03P
, 4J100BC43Q
, 4J100CA04
, 4J100CA05
, 4J100DA01
, 4J100DA02
, 4J100DA09
, 4J100DA38
, 4J100DA39
, 4J100FA03
, 4J100FA28
, 4J100GC35
, 4J100JA61
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (15)
Show all
Cited by examiner (1)
Return to Previous Page