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J-GLOBAL ID：200903093426462498

露光装置

Inventor： 横田 幸広
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 阪本 善朗
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998181524
Publication number (International publication number)：2000003853
Application date： Jun. 12, 1998
Publication date： Jan. 07, 2000
Summary：

【要約】【課題】 照明光学部材を収容する密閉空間において、シール材の劣化により弾性力が低下しても密閉度を低下させることがなく、密閉空間内部への大気の流入を防ぐことが可能な露光装置を提供する。【解決手段】 照明光学系と投影光学系を備えた露光装置において、照明光学系の光源から投影光学系のマスク側端部までの光路を大気から遮断する少なくとも1以上の密閉構造とし、各密閉構造を筐体11とカバー12およびそれらの間に介在するシール材13で構成するとともに、カバー12を筐体11に取り付ける締付けボルト14とカバー12との間にコイルばね16を挿入することにより、シール材13が劣化により弾性力が低下しても、コイルばね16の作用によって、密閉構造の密閉度を維持しうるようにし、大気の流入を防止して、オゾン発生による窒息事故や光量損失を防止し、照明効率の低下を防止する。

Claim (excerpt)：

パターンが形成されたマスクに特定波長の光を照射するための照明光学系と、照射されたマスクパターン像を基板上に投影露光するための投影光学系を備えた露光装置において、前記照明光学系の光源から前記投影光学系の前記マスク側端部までの光路を大気から遮断するための少なくとも1以上の密閉構造とし、該密閉構造には、その分割部に介在させた弾性体であるシール材に対して常時負荷をかけることにより前記シール材の劣化による密閉不良を防止するシール手段を備えたことを特徴とする露光装置。

IPC (2)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 502

FI (2)：

H01L 21/30 515 Z ,  G03F 7/20 502

F-Term (8)：

2H097BA02 ,  2H097LA10 ,  5F046BA03 ,  5F046CA04 ,  5F046CB02 ,  5F046CB23 ,  5F046CB27 ,  5F046DA27